CVD【chemical vapor deposition】化学気相成長法/化学蒸着法

 半導体・絶縁体・金属などをガスにして、加熱した基板上で化学反応により堆積させ、薄膜を形成する技術。

マイクロ波プラズマCVD装置

MOCVD【metal organic CVD】有機金属気相成長法

 原料として有機金属やガスを用いた結晶成長方法で、化合物半導体結晶を作製するのに用いられ、原子層オーダで膜厚を制御することができるため、半導体レーザをはじめとするナノテクノロジーといった数nmナノメートルの設計が必要な分野で用いられる。

 代表取締役:梅野(工学博士)が、名大・名工大時代共に、大陽日酸㈱(元 日本酸素㈱)との共同研究を通して、MOCVD技術の完成度を高めてきた。

MPCVD【microwave plasma-enhanced CVD, microwave plasma CVD】マイクロ波プラズマCVD

 2.45GHzギガヘルツのマイクロ波を使用してプラズマ放電させ、高密度プラズマにより高速成膜する方法。