半導体・絶縁体・金属などをガスにして、加熱した基板上で化学反応により堆積させ、薄膜を形成する技術。
原料として有機金属やガスを用いた結晶成長方法で、化合物半導体結晶を作製するのに用いられ、原子層オーダーで膜厚を制御することができるため、半導体レーザをはじめとするナノテクノロジーといった数nmの設計が必要な分野で用いられる。
代表取締役：梅野（工学博士）が、名大・名工大時代共に、大陽日酸㈱（元 日本酸素㈱）との共同研究を通して、MOCVD技術の完成度を高めてきた。
高周波（2.45GHz）なマイクロ波を使用してプラズマ放電させ、高密度プラズマにより高速成膜する方法。